合光光掩模科技（安徽）有限公司成立于2023年4月，坐落于“大湖名城，创新高地”安徽省省会合肥市新桥科创示范区，注册资本14.33亿元。公司拟投资50.1亿元建立光掩模生产基地，占地面积49.5亩，总面积约3万平方米，作为一家国内独立的高端光掩模生产制造商，公司主要从事掩模板的研发、设计、生产和销售业务。
本项目是为合光光掩模科技（安徽）有限公司12英寸半导体制造工艺提供超纯水解决方案。通过集成应用M/CF预处理、反渗透（RO）、电去离子（EDI）以及PMB等核心工艺技术，构建了一套高效的超纯水制备系统。该系统可有效满足客户生产线对于超纯水质量及供应稳定性的严格要求，为客户的半导体制造流程提供可靠的水质保障。
